国产3nm光刻机攻克了

豆沙包wendell

8爷怎么看，怎么感觉和8爷的阅历经验不同呢，以前盾构机不行，后来国内也攻克了，好像什么不行靠国人的奋发图强就能攻克一切，验证了人定胜天，我估计氢车也能攻克

中科院全固态DUV光源突破：3nm工艺新路径，与ASML截然不同 【喜报】能生产3nm了！中国科学院最近研发出一种新技术，能发出193nm的深紫外（DUV）激光，达到生产3nm的超精细水平。

这跟ASML等公司的传统方法完全不一样。简单来说，ASML的光刻机是用氩气和氟气混合，在高压电场里激发出193nm的光，功率高达100-120W，频每秒8000-9000次。

而中科院用的是“全固态”方案，不靠气体，而是用一块特殊的晶体（Yb:YAG）先发出1030nm的光，再通过两种巧妙的方式“变身”成193nm。

第一种方式像光的“四级跳”，把1030nm变成258nm，功率1.2W；第二种方式像光的“放大镜”，变成1553nm，功率700mW。最后，这两束光混合在一块硼酸锂晶体里，就成了193nm的光。

结果呢？功率70mW，频率6000次/秒，光的质量也很不错，跟ASML的差不多，能支持3nm芯片制造。

这个技术的好处是设备更简单、体积小，不用稀有气体，还省电。成果已经登上国际光电学会官网。

不过，功率和频率比ASML低不少，分别是它的0.7%和2/3，还得再改进才能用在工厂里。但这步突破已经很厉害了，证明中国在芯片制造技术上有了新方向！

寂静回声

盾构机是攻克的吗，有脸提吗？
2007年，北方重工并购了德国维尔特控股公司的子公司——法国NFM公司。
2013年：中铁工程装备集团有限公司成功收购德国维尔特公司岩石隧道掘进机业务。
2014年：辽宁三三工业有限公司全资收购世界500强、国际工程机械第一品牌美国卡特彼勒公司的子公司——卡特彼勒加拿大隧道设备有限公司。
2018年：北方重工收购了法国NFM公司。
2019年：中铁装备收购了美国盾构机企业罗宾斯公司的一部分业务。
你不会把买图纸叫做攻克吧，998把图纸卖给你，你也是998了吗

光刻机的核心并不单单是激光，它是一个复杂的系统，包含了多个关键组件和技术。光刻机主要用于半导体芯片制造过程中，将电路图案精确地转移到硅片上。
Low-NAEUV光刻机：用于3nm-7nm制程节点，EUV为极紫外光，该光源的波长较此前光源明显减小，显著提升光刻机的分辨率。
High-NAEUV光刻机：用于3nm以下制程节点，High-NA是指高数值孔径（0.33→0.55），是下一代光刻机技术，将在已有EUV基础上进一步提高分辨率与成像能力，从而实现更先进制成的生产。当前该技术由阿斯麦公司研发中，公司预计在2025年实现出货。

当前全球半导体前道光刻机市场主要由ASML、Nikon、Canon三分天下。光刻机市场历经千帆，从早年美国GCA+ PerkinElmer把持，到如今仅剩荷兰ASML+日本Nikon/Canon，美国光刻机企业退出历史舞台。后入局的上海微电子主要在封装环节，前道光刻机小批量出货。当前，光刻机市场份额集中度很高，ASML占据全球8成以上的市场。
浸没式的成功和EUV的飞跃，使ASML几乎垄断高端市场。全球仅ASML能生产高端EUV，浸没式DUV也仅ASML与Nikon出货，2022年ASML出货占95%，在ArF和KrF光刻机的份额也高达88%/72%。仅低端i线光刻机上，Canon出货占比较高。
我国光刻机攻尖采取类ASML的模式，细分各科研院所、高校做分系统，再由SMEE进行整机组装。中科院微电子所、长光所、上光所，清华大学、浙江大学、哈工大等均参与光刻机的研发，目前干法光刻机的分系统基本通过验收，陆续产业化落地，并继续承担“02专项”进行湿法光刻机分系统研发。
上海微电子完成90nm光刻机出货，并加快浸没式设备研发。SMEE在光刻机领域有多年积累，占据国内后道封装用光刻机80%以上的市场份额。2018年公司承担的02专项“90nm光刻机样机研制”通过验收，对应公司90nmSSA600/20步进扫描投影光刻机实现量产。2017年公司承担的02专项“浸没光刻机关键技术预研项目”也通过验收，目前正在加速推进产业化落地。

2025年3月24日，中国科学院研究人员成功研发了一种能够发射193纳米相干光的全固态DUV激光技术。这一波长与当前主流的DUV曝光技术一致，理论上可支撑半导体制造工艺延伸至3纳米节点，光谱纯度与现有商用准分子激光系统相当。该技术已接近商用标准，但在输出功率和频率上仍远低于现有技术，尚无法满足高产能晶圆制造需求。


你是真看不懂人话，还是他妈的在那使坏呢。
激光器需要提供稳定且足够高的输出功率以满足不同应用场景的需求，商用激光系统往往要求长时间稳定运行，因此激光器的使用寿命和运行期间的可靠性是非常重要的考量因素。

更高的输出频率可以提供更精细的分辨率，因为它允许在单位时间内进行更多的曝光操作，从而可以在硅片上形成更加复杂的图案。
输出频率也影响着光刻工艺的速度。较高的频率意味着更快的数据处理速度和更高的生产效率，因为每次脉冲都能用于曝光过程的一部分。
为了保证制造出的芯片具有高质量和高性能，激光输出需要保持高度的一致性和均匀性。这不仅涉及输出功率的稳定性，也包括输出频率的稳定。

半先生

兄弟，你是不是也信新闻联播呀。估计你也没接触过大帽子。
用他们酒桌上的话，获奖越大，骗子越大，数据越好，造假越高。

fly-star

他们除了吹牛是真的，其他全是假的。

辰宇

动车轮子 看看是谁家的

动车外壳 材质是谁家的

青藏高原的火车头又是谁家的